En este trabajo se muestra el estado del arte en materia de mediciones de desviación de planitud en el ámbito del Sistema Interamericano de Metrología (SIM). A partir de un trabajo colaborativo entre institutos de metrología de la mencionada región ha sido posible no solo mejorar los sistemas de medición en dicha magnitud que actualmente se encuentran en operación, sino también lograr el emplazamiento de nuevos desarrollos interferométricos de diseño propio, logrando independencia tecnológica y que sientan las bases para el fortalecimiento del área de nanometrología en la región, permitiendo además la implementación de nuevas capacidades de medición y calibración. Por otro lado, la interacción ha permitido la generación de nuevos métodos de análisis de procesamiento de imágenes basado en 􀁾ltros de Gabor aplicados a un único interferograma.